ASML：EUV產能排至2027年，具備漲價空間

ASML Holding NV 財務長表示，由於其極紫外光（EUV）微影設備的產能至2027年底幾乎已全數訂滿，公司在部分晶片製造設備上擁有漲價空間。

ASML Holding NV 示意，由於其極紫外光（EUV）微影設備的產能至2027年幾乎全數訂滿，公司在部分晶片製造設備上具備漲價空間，這家荷蘭公司在AI驅動的半導體繁榮中延伸了定價能力。

「考量當前的需求環境，我們對部分設備擁有漲價空間，」財務長 Roger Dassen 週三受訪時表示，但未具體說明哪些產品或潛在漲幅。

此番言論之際，ASML 公布第二季淨銷售額為93億歐元（約102億美元），優於市場共識的88億歐元；淨利達29億歐元，亦高於預期的26億歐元。該公司今年第二次上調2026年全年財測，目前預測營收將達430億至450億歐元，毛利率為54%至56%，高於先前預估的360億至400億歐元及51%至53%。

ASML 是 EUV 微影設備的唯一供應商，該設備利用極紫外光在先進半導體上蝕刻最微細的電路。隨著包括台積電與三星電子在內的客戶加速擴充產能，執行長 Christophe Fouquet 表示，公司計劃將2026年低數值孔徑（Low NA）EUV 產能提升30%，深紫外光（DUV）浸潤式產能亦增加30%。

Fouquet 在聲明中指出，上半年訂單需求「極為強勁」。ASML 的客戶正持續「加速擴充產能計劃」，進而轉化為橫跨各產品線的長期承諾，讓公司得以「更清楚地掌握長期需求」。

產能限制與定價優勢

ASML 近期產能中最先進的設備已實質售罄。公司能夠漲價，反映出供需失衡使其擁有非比尋常的議價能力——多數資本設備供應商在客戶（即半導體製造商）遭遇週期性衰退時，通常面臨降價壓力。

這一定價能力集中於 ASML 的 EUV 產品線，該公司在該領域具備壟斷地位。每台高數值孔徑（High NA）EUV 設備造價約為4億歐元，且 ASML 是唯一能夠生產製造3奈米及以下晶片所需系統的廠商。台積電六月銷售額年增68%，正計劃在台灣嘉義科學園區增設兩座先進晶片封裝廠，反映出當前產能擴張的規模。

中國曝險與出口管制

中國佔 ASML 第二季銷售比重為14%，低於第一季的19%，主因出口限制持續收緊對中國客戶的先進設備出貨。南韓仍為最大市場，佔銷售比重達43%，受三星與 SK 海力士投資帶動。

該公司面臨美國一項跨黨派法案可能施加的額外限制，該法案擬切斷對中國晶片公司的 DUV 設備銷售。該法案仍在美國國會審議中。Dassen 表示，中國市場「與我們在全球觀察到的整體走向一致」。

投資視角

ASML 股價今年已飆漲115%，目前交易價格約為遠期本益比50倍——晨星資深股票分析師 Javier Correonero 稱此估值相較其公允價值估計（遠期本益比35至40倍）「略顯偏高」。溢價反映了市場信心，認為AI驅動的先進晶片需求將使 ASML 的成長動能持續超越當前週期。該公司計劃於2027年6月10日的資本市場日中更新長期目標。

本文僅供資訊參考之用，不構成投資建議。